三靶共溅射设备
型号规格：JGP-450A
购买日期：2011-01-13
设备分类：工艺实验设备
设备小类：加工工艺实验设备
制造厂商：沈科仪
设备产地：中国
仪器状态：内外部共享
设备原值：29.9万
实验地址：东莞理工学院电子楼
服务价格：面议
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检测技术服务
无
仪器可预约以下服务
薄膜制备
功能描述
在镀膜工艺条件下，采用微机控制样品转盘和靶挡板，既可以制备单层膜，又可以制备各种多层膜，为新材料和薄膜科学研究领域提供十分理想的研制手段。
技术指标
主要性能参数：极限真空度：≤6.0×10-5 Pa；
磁控溅射靶：2英寸3套；
直流溅射电源：500W；
射频溅射电源：500W；
样品温度：600°C。
上机要求
样品要求：非挥发性非腐蚀性基板。
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