三靶磁控溅射镀膜机
型号规格：TRP-450
购买日期：2019-11-12
设备分类：工艺实验设备
设备小类：电子工艺实验设备
制造厂商：中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
设备产地：中国
仪器状态：内外部共享
设备原值：49万
实验地址：东莞市松山湖瑞鹰国际创新园7号楼1层
服务价格(元/每小时)：300
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检测技术服务
无
仪器可预约以下服务
样品镀膜
功能描述
系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜(需配射频电源)、介质复合膜和其它化学反应膜等。
技术指标
溅射室极限真空度：≤6.6x10-5Pa(经烘烤除气后)；最大4英寸样品1片，样品具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调；加热装置在采用进口电阻丝进行加热，加热温度：室温—600°C。
上机要求
无
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